紐約計劃與IBM、Micron等共建100億美元晶片研究中心

紐約州政府宣布將投資10億美元，與IBM、Micron和Applied Materials等晶片產業巨頭合作，建立一個高折射數極紫外線（EUV）光刻研發中心。

創造就業機會

該中心將創造至少700個新的工作機會，並可能產生估計90億美元的私人支出。該中心將在阿爾巴尼納米科技綜合體內建立，該綜合體由紐約創新研究、經濟推進、科技、工程和科學中心（NY CREATES）運營。

爭取聯邦資金

紐約州的這項計劃旨在提昇其在聯邦CHIPS和科學法案下的研究中心地位，該法案是去年通過的一項530億美元的兩黨法案，旨在提昇美國的晶片製造能力。獲得該地位後，紐約州可能解鎖超過110億美元的聯邦資金。