ASML：中國晶片製造技術落後西方10至15年
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荷蘭晶片光刻機巨頭ASML行政總裁Christophe Fouquet近日接受荷蘭媒體訪問，Christophe Fouquet指出，中國在半導體領域雖取得進步，但與台積電、三星等領導企業相比，仍落後10至15年。
他認為，光刻機技術是芯片製程的關鍵，而先進的極紫外光刻機（EUV）對技術突破至關重要。目前，ASML因美國限制無法向中國出口EUV技術，即便是提供深紫外光刻機（DUV），中國企業仍難以達到國際頂尖水準。
Christophe Fouquet同時強調，中國在自主技術發展上展現堅韌，在各環節均有一定基礎。他也表示，ASML希望能持續維護在中國的設備，以避免因資訊外洩導致更大風險。他呼籲相關國家理解此邏輯，不應完全切斷技術支持。
儘管受到地緣政治壓力，中國仍是ASML的重要市場。根據2024年第三季度財報，中國貢獻了47%的銷售額，達27.9億歐元。然而，公司訂單金額從上一季度的56億歐元下降至26億歐元，受此影響，股價大幅下挫16%，創下26年來最大單日跌幅。
